より少なく、
より無害に
温室効果ガスを
削減するための
取り組み

RCS(Regenerative Catalytic System)は、触媒を使ってプロセスガスを屋上で総合的に処理する施設です。 すべての設備の排出口が屋上につながっている点が特徴です。 他社の個別処理施設(POU, Point of use)と 比較した場合、 サムスン半導体の総合処理施設であるRCSは低温でプロセスガスを処理できるため、燃料の使用量を削減し、 大気汚染 物質(Air pollutants)の発生も抑えます。 サムスン半導体は、さらに進んで処理効率が95％で耐久性に優れたRCSの触媒を新たに開発・適用し、プロセスガスの処理効率を高めました。 RCSは2007年にサムスン半導体と サムスンエンジニアリングが 共同開発し、2009年に業界で初めて導入した大容量の温室効果ガス総合処理施設で、2023年現在までサムスン半導体が唯一使用しています。

また、2023年には4つの生産ラインに16台のRCSを設置しました。これからも新規生産ラインおよび設置が不可能なラインを除いた既存の生産ラインにRCSの設置を拡大することで、直接排出量の削減に取り組みます。